منتشر کے کام کرنے والے اصول میں بنیادی طور پر مندرجہ ذیل پہلو شامل ہیں:
جذب: منتشر افراد ان کے انوکھے سالماتی ڈھانچے اور کیمیائی خصوصیات کے ذریعہ ٹھوس ذرات کی سطح پر جذب پیدا کرتے ہیں ، اس طرح ان ذرات کی واٹیبلٹی کو نمایاں طور پر بڑھاتے ہیں۔ جب پولیمر منتشر افراد ٹھوس ذرات پر جذب ہوجاتے ہیں تو ، ان کی سطح پر ایک جذب کی پرت تشکیل دی جاتی ہے ، جو نہ صرف ذرات کی سطح پر چارج کثافت میں اضافہ کرتی ہے ، بلکہ ذرات کے مابین سٹرک رکاوٹ اور رد عمل کی قوت کو بھی بڑھاتا ہے۔
ڈبل پرت کا ڈھانچہ: پانی پر مبنی ملعمع کاری میں ، ڈبل پرت کا ڈھانچہ تشکیل دینے کے لئے پاؤڈر اور پانی کے درمیان انٹرفیس پر منتشر افراد کو منتخب طور پر جذب کیا جاتا ہے۔ anionic منتشر افراد کو پانی میں آئنائزڈ کیا جاتا ہے تاکہ anions کی تشکیل کی جاسکے ، جو پاؤڈر کی سطح پر جذب ہوتے ہیں۔ جب منتقلی پاؤڈر ذرات کی سطح پر جذب ہوجاتی ہے تو ، آئنوں کو ذرات کی سطح پر مضبوطی سے جذب کیا جاتا ہے اور انہیں سطح کے آئن کہا جاتا ہے۔ میڈیم میں مخالف چارجز والے آئنوں کو کاؤنٹر کہتے ہیں ، جو الیکٹرو اسٹاٹک ایکشن کے ذریعہ سطح کے آئنوں کے ساتھ مل جاتے ہیں۔ اس طرح سے ، سطح کے آئنوں اور کاؤنٹروں کے مابین ایک ڈبل پرت تشکیل دی جاتی ہے ، اور ذرات کو الیکٹرو اسٹاٹک پسپائی کے ذریعہ جمع کرنے سے روکا جاتا ہے۔
rep ریپلیوسل فورس اثر : منتشر انووں میں ہائیڈرو فیلک اور ہائیڈروفوبک خطے ہوتے ہیں۔ سالوینٹ میں وہ جس مائیکل ڈھانچے کی تشکیل کرتے ہیں وہ ٹھوس ذرات کو لپیٹ سکتے ہیں اور ایک متضاد قوت کا اثر پیدا کرسکتے ہیں ، تاکہ ذرات ایک خاص فاصلے کو برقرار رکھیں۔ ster سٹرک رکاوٹ کا اثر: سالوینٹ میں منتشر انووں کے ذریعہ تشکیل شدہ مائیکل ڈھانچہ ایک وسیع رکاوٹ کا اثر فراہم کرتا ہے ، جو ذرات کے مابین تصادم اور جمع ہونے میں رکاوٹ ہے اور ذرات کی منتشر حالت کو برقرار رکھتا ہے۔ چارج اثر: کچھ منتشر انووں پر ان کی سطحوں پر الزامات عائد ہوتے ہیں ، جو جمع ہونے سے بچنے کے ل elect الیکٹرو اسٹاٹک ریپلشن کے ذریعے ذرات کو پسپا کرسکتے ہیں۔